| アイテム |
説明 |
プローブサイズ (mm) |
| RIP-RPB-532 |
指定された操作波長から3nmまでのレーザーと使用するためのRIP-PRB*ラボラトリプローブ; 焦点距離7.5mm; 532nm励起波長のセットアップに本アイテムをご使用下さい |
114 x 38 x 12.7;
1.5 m ファイバ |
| RIP-RPB-785 |
指定された操作波長から3nmまでのレーザーと使用するためのRIP-PRB*ラボラトリプローブ; 焦点距離7.5mm; 785nm励起波長のセットアップに本アイテムをご使用下さい |
114 x 38 x 12.7;
1.5 m ファイバ |
| RIP-RPS-532-IP |
研究室およびフィールドでの使用のためのステンレススチールフォーカスプローブ; 焦点距離5mm (7.5mmまたは10mmもご利用可)、励起波長532nmのセットアップ用 |
OD 12.7 x 長さ 101;
5 m ファイバ |
| RIP-RPS-785 |
研究室およびフィールドでの使用のためのステンレススチールフォーカスプローブ; 焦点距離5mm (7.5mmまたは10mmもご利用可)、励起波長785nmのセットアップ用 |
OD 12.7 x 長さ 101;
5 m ファイバ |
| RIP-RP2-532 |
200℃まで耐水性があり、作動距離を調節できるステンレススチール液侵プローブ、励起波長532nmのセットアップ用 |
OD 15.87 x 長さ 203;
5 m ファイバ |
| RIP-RP2-785 |
200℃まで耐水性があり、作動距離を調節できるステンレススチール液侵プローブ、励起波長785nmのセットアップ用 |
OD 15.87 x 長さ 203;
5 m ファイバ |
| RIP-RPR-H-532 |
200℃、および1500psiまでのプロセスコントロールアプリケーションで使用するためのハステロイC液侵プローブ; サファイアウィンドウ付きで作動距離を調節可能、励起波長532nmのセットアップ用 |
OD 15.87 x 長さ 330;
5 m ファイバ |
| RIP-RPR-H-785 |
200℃、および1500psiまでのプロセスコントロールアプリケーションで使用するためのハステロイC液侵プローブ; サファイアウィンドウ付きで作動距離を調節可能、励起波長785nmのセットアップ用 |
OD 15.87 x 長さ 330;
5 m ファイバ |
| RIP-RPP-532 |
500℃および3000psiまでのプロセスコントロールアプリケーション用の外部オプティクス付きステンレススチールプローブ; サファイアレンズ付きで短い作動距離、励起波長532nmのセットアップ用 |
OD 9.52 x 長さ 300;
5 m ファイバ |
| RIP-RPP-785 |
500℃および3000psiまでのプロセスコントロールアプリケーション用の外部オプティクス付きステンレススチールプローブ; サファイアレンズ付きで短い作動距離、励起波長785nmのセットアップ用 |
OD 9.52 x 長さ 300;
5 m ファイバ |
| RIP-PA-SH |
円形バイアル、角型キュベット、および固体サンプルキャップ用サンプルホルダ |
N/A |
| RIP-RPR-SS-532 |
200℃および1500psiまでのプロセスコントロールアプリケーションで使用するためのステンレススチール液侵プローブ; 調節可能な作業距離をもつサファイアウィンドウ、励起波長532nmのセットアップ用 |
OD 15.87 x 長さ 330;
5 m ファイバ |
| RIP-RPR-SS-785 |
200℃および1500psiまでのプロセスコントロールアプリケーションで使用するためのステンレススチール液侵プローブ; 調節可能な作業距離をもつサファイアウィンドウ、励起波長785nmのセットアップ用 |
OD 15.87 x 長さ 330;
5 m ファイバ |
